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电弧镀膜
PVD主流制备方式, 用真空放电原理将靶材蒸汽粒子从阴极表面释放发射。靶材的离子化蒸汽受到相对于腔体和阳极的负偏压加速,从而撞击并沉积在基板上形成膜层。
电弧镀膜特点:
生产效率高:
在PVD技术中,对于硬质涂层来讲,电弧涂层可在保证涂层结合力的前提条件下,最短时间内完成工艺。
附着性高:
电弧镀膜,单个离子能量高,涂层可牢固的沉积在基材表面,难以剥离,远超过常规化学涂覆以及电学涂覆。
工艺稳定:
电弧镀膜因工艺技术成熟,设备可靠性高,在制备涂层,尤其是复合涂层上可实现精确的控制,品质可靠
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