苏州涂冠镀膜科技有限公司专业CrN镀膜,TiN镀膜,镀膜,真空镀膜,纳米涂层,模具刀具镀膜TiN,CrN,TiAlN,DLC,Wcc,类金刚石薄膜,离子镀,溅射镀,硬质涂层,PVD涂层

涂层技术 PVD技术 CVD技术电弧镀膜溅射镀膜表面技术对比技术术语

涂层指南涂层列表 Champion T Champion C Champion TC Champion A Champion CA Champion W Champion D

服务指南服务条款运输

电弧镀膜

PVD主流制备方式，用真空放电原理将靶材蒸汽粒子从阴极表面释放发射。靶材的离子化蒸汽受到相对于腔体和阳极的负偏压加速，从而撞击并沉积在基板上形成膜层。
电弧镀膜特点：

	生产效率高：
	在PVD技术中，对于硬质涂层来讲，电弧涂层可在保证涂层结合力的前提条件下，最短时间内完成工艺。
	附着性高：
	电弧镀膜，单个离子能量高，涂层可牢固的沉积在基材表面，难以剥离，远超过常规化学涂覆以及电学涂覆。
	工艺稳定：
	电弧镀膜因工艺技术成熟，设备可靠性高，在制备涂层，尤其是复合涂层上可实现精确的控制，品质可靠